Законопроект США, призванный ограничить поставки в Китай части технологического оборудования для производства микросхем, в обновлённой версии оказался более «сдержанным», чем первоначальный вариант. При этом документ сохраняет ключевое нововведение: общенациональный запрет на использование машин нидерландской ASML для литографии в ультрафиолетовом диапазоне глубокого проникновения (DUV, immersion lithography). Именно такие системы относятся к критически важным инструментам в производстве современных чипов.
Компания ASML, базирующаяся в Нидерландах и являющаяся ведущим мировым поставщиком соответствующих технологий, от комментариев отказалась.
Что такое MATCH Act и зачем он нужен
Законопроект, известный как «MATCH Act», был внесён в Палату представителей США 2 апреля при поддержке депутатов разных партий. Его цель — закрыть «пробелы» в действующих ограничениях на экспорт оборудования для производства чипов в Китай и синхронизировать подход США с союзниками и партнёрами, включая Японию и Нидерланды.
Аббревиатура MATCH расшифровывается как «Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act» — то есть закон о многостороннем согласовании ограничений по технологиям в отношении оборудования. В публичной повестке документ привязывают к более широкой задаче: поддержанию технологического лидерства в сфере искусственного интеллекта, который, по мнению авторов, способен повлиять на баланс сил между государствами.
Почему ранняя версия законопроекта вызвала тревогу у индустрии
Первый вариант текста, представленный в начале апреля, заметно встревожил отрасль как в самих США, так и за их пределами. По оценкам экспертов, инициативу стали описывать как «неконтролируемо разгоняющийся» процесс: помимо попытки добиться согласования действий союзников с американскими правилами, документ предусматривал новые ограничения одновременно по географии (то есть на уровне всей страны) и по масштабу — с привязкой к компаниям и конкретным типам поставок.
Производители указывали на очевидный для бизнеса риск: любые дополнительные ограничения, как правило, сокращают экспортные возможности, а значит снижают продажи и ухудшают прогнозируемость контрактов.
Кто внёс законопроект и как изменили текст
Инициатором выступает республиканец Майкл Баумгартнер (Michael Baumgartner). В обновлённой версии, по последнему доступному проекту, он предлагает новый вариант как замену первоначальному тексту.
Обновление действительно затронуло ряд положений: часть ограничений из ранней редакции убрали. В частности, были сняты общенациональные ограничения на криогенные травильные инструменты (cryogenic etch tools) для чипов — оборудование, которое производят Lam Research (Калифорния) и Tokyo Electron (Япония).
Что оставили: запрет на DUV immersion lithography и адресные ограничения
Несмотря на смягчение ряда пунктов, в законопроекте сохранено новое общенациональное ограничение на поставки в Китай оборудования ASML для DUV immersion-литографии. На практике это означает, что иностранным компаниям будет сложнее (или фактически невозможно) продавать такие системы китайским производителям, если речь идёт о применении, подпадающем под рамки американских запретов.
Кроме того, обновлённый текст остаётся адресным: он запрещает зарубежным фирмам поставлять китайским производителям чипов — CXMT (ChangXin Memory Technologies), YMTC (Yangtze Memory Technologies) и SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) — оборудование для тех предприятий, которые попали под американские ограничения и где использование техники с применением американских инструментов запрещено или ограничено.
Отдельно оговаривается и сервисная составляющая. Законопроект требует лицензий на обслуживание оборудования на подпадающих под запрет объектах. Это также считается чувствительным пунктом, поскольку обслуживание — одна из ключевых статей поддержки работоспособности сложных производственных линий. При этом заявлено, что заявки на лицензии больше не будут автоматически сопровождаться политикой отказа.
Контекст: ограничения с конца 2022 года и ставка на «выравнивание»
В США считают, что экспортный контроль в сфере полупроводников должен быть согласован с действиями Нидерландов и Японии. Эти страны фигурируют в цепочках поставок оборудования для чипов: технологические решения часто завязаны на конкретных производителях, и разнобой правил между государствами способен создавать «лазейки».
Ограничения на экспорт оборудования в Китай были заметно усилены в конце 2022 года. Параллельно США пытались выстраивать договорённости с союзниками, и в отдельных случаях им удавалось добиваться совпадения подходов. Однако американские производители оборудования утверждают, что «поле игры» всё ещё недостаточно ровное: различия в правилах сохраняются, а значит и эффект от ограничений может быть неполным.
Именно поэтому MATCH Act предполагает временной «порог» для дипломатических переговоров с союзниками по странам-поставщикам, после чего США должны будут перейти к применению собственных ограничительных мер.
Как продвигается законопроект и чего ждут дальше
Палата представителей планирует рассмотреть MATCH Act на голосовании в ближайшую среду — вместе более чем с десятком других инициатив, связанных с темами искусственного интеллекта, полупроводников и экспортного контроля. Юридически это будет один шаг в цепочке процедур, ведущих к возможному принятию закона.
Общий фон этих действий — попытка США ужесточить регуляции в отношении чипов и оборудования для их производства по отношению к Китаю. Отдельные наблюдатели отмечают, что при администрации Дональда Трампа обновление экспортных ограничений происходило медленнее, а в ряде случаев действующие ограничения на более продвинутые чипы ослаблялись.
Реакция Китая
Китайские производители чипов, упомянутые в законопроекте, на запросы о комментариях не ответили.
Представитель китайского посольства в Вашингтоне прокомментировал инициативу, заявив, что Китай намерен внимательно следить за развитием событий и защищать свои права и интересы. В заявлении было сказано, что Китай выступает против «чрезмерного расширения» понятия национальной безопасности и использования различных предлогов для давления на другие страны с целью вовлечь их в технологическую блокаду против Китая.
Среди ключевых элементов, которые вызывают наибольшее внимание, — сохранение запрета на поставки DUV immersion-литографии и механика лицензирования сервисных операций, а также адресный характер ограничений для конкретных китайских производителей. Именно эти пункты, вероятнее всего, станут предметом дальнейших дискуссий в ходе рассмотрения законопроекта в Конгрессе.
